盛美上海11月18日发布了光致抗蚀剂涂敷显影磁道设备，标志着该公司正式进入光致抗蚀剂涂敷显影磁道市场。这也是该公司提高清洗、光刻胶涂布、显影领域专业技术的必然结果。

　盛美上海涂布显影跟踪设备是应用于300毫米晶圆技术的设备，可提供均匀的下降气流、高速稳定的机器人操作及强大的软件系统，从而满足客户的特定需求。该设备功能多样，可降低产品缺陷率，提高产能，节约总体拥有成本（COO）。涂布显影轨迹装置支持多种光刻工艺，包括i-line、KrF和ArF系统。