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2024.03.29

用于第 2 纳米代逻辑半导体的光掩膜 DNP 将开发用于 EUV 的制造工艺

DNP（DNP公司）已开始全面开发用于2纳米一代逻辑半导体的光掩膜制造工艺。该工艺与半导体制造领域最先进的极紫外线（EUV）光刻工艺兼容。

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