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2025.04.25
美光将在日本和台湾的 DRAM 制造中使用 EUV，3D 之后曝光技术回归本源
美国主要半导体存储器制造商美光科技已开始出货其用于临时数据存储的 1γ（伽马，第六代 10nm）DRAM 样品。这将是该公司首次将EUV曝光技术用于量产。将于2025年在台湾工厂开始量产，2026年在广岛工厂（广岛县东广岛市）开始量产。
美国主要半导体存储器制造商美光科技已开始出货其用于临时数据存储的 1γ（伽马，第六代 10nm）DRAM 样品。这将是该公司首次将EUV曝光技术用于量产。将于2025年在台湾工厂开始量产，2026年在广岛工厂（广岛县东广岛市）开始量产。