8月19日晚，中微半导体设备（上海）股份有限公司披露2026年半年度报告。上半年公司实现营业收入约66.91亿元，同比增长34.89%；扣非归母净利润约11.23亿元，同比增长108.36%；归母净利润约28.25亿元，同比增长约300.22%。研发投入约20.41亿元，同比增长36.89%，占营业收入比例约为30.52%。中微公司董事长兼总经理尹志尧表示，公司自2012年起已连续14年保持年均销售35%以上增长，人均年销售额达450万元，与国际领先设备公司持平，而人均成本不到国际公司的一半。2026年上半年，公司在研项目涵盖六大类设备、超20款新设备，包括新一代CCP刻蚀机、ICP刻蚀机、晶圆边缘刻蚀设备、LPCVD及ALD薄膜设备等。CCP刻蚀设备方面，针对超高深宽比工艺的Primo XD-RIE已完成实验室测试，Beta机在客户端验证顺利；针对7纳米及以下逻辑器件的全新高选择比刻蚀设备预计年内付运客户端。ICP刻蚀设备方面，低温高深宽比刻蚀设备已在客户产线稳定量产，下一代高精度设备已取得多个重复订单。