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2023.12.15
DNPが3nm相当リソグラフィ向けフォトマスク製造プロセス開発 回路線幅の微細化に対応
大日本印刷(DNP)は12日、半導体製造の最先端プロセスのEUV(極端紫外線)リソグラフィーに対応した、3ナノメートル相当のフォトマスク製造プロセスを開発したと発表した。スマートフォンやデータセンターなどで使われるロジック半導体の高性能化に伴う、回路線幅の微細化ニーズに対応した。