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2024.03.29
2ナノ世代ロジック半導体向けフォトマスク DNPが製造プロセス開発へ EUV対応
大日本印刷（DNP）が、2ナノメートル世代のロジック半導体向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に開始した。半導体製造の最先端プロセスであるEUV（極端紫外線）リソグラフィーに対応するものだ。