2026年3月25日、SEMICON China 2026初日、半導体装置メーカーの拓荆科技は上海新国際博覧中心E7館7301ブースにて2026年新製品発表会を開催した。拓荆科技は量産型PECVD、ALD、Gap-fillおよび3D IC関連装置の研究開発に注力し、製品は国内30都市の100ラインに導入されている。「生産世代・開発世代・先行研究世代」を並行する戦略を継続し、高い研究開発投資と製品更新を進めている。2026年は先端プロセス装置および工藝開発に重点を置き、顧客の特殊用途に対応した技術ソリューションを提供する。発表会では四大シリーズ新製品の技術特徴と応用分野が紹介された。