日本酸素ホールディングスグループの大陽日酸は、RASIRC製BRUTE Hydrazineに適応した高純度ヒドラジンガス供給システムを開発した。ヒドラジンガスは一般的な窒化源のアンモニアと比べて反応性が高いため、半導体製造プロセスの低温化、膜質向上、スループット改善が可能となり、先端ロジック半導体の微細化やメモリーの大容量化の実現につながる。