8月19日夜、中微半導体設備（上海）股份有限公司は2026年上半期報告書を開示した。上半期の営業収益は約66.91億元で前年同期比34.89％増、非経常損益を控除した親会社株主に帰属する純利益は約11.23億元で同108.36％増、親会社株主に帰属する純利益は約28.25億元で同約300.22％増となった。研究開発投資は約20.41億元で前年同期比36.89％増となり、営業収益に占める割合は約30.52％である。中微公司の董事長兼総経理である尹志尧は、同社が2012年以降14年連続で年平均35％以上の売上成長を維持し、従業員1人当たり年間売上高は450万元に達して国際的な大手装置メーカーと同水準である一方、従業員1人当たりのコストは海外企業の半分以下であると述べた。2026年上半期、同社の研究開発プロジェクトは6種類の装置カテゴリー、20機種を超える新装置をカバーしており、次世代CCPエッチング装置、ICPエッチング装置、ウェハエッジエッチング装置、LPCVDおよびALD薄膜装置などが含まれる。CCPエッチング装置では、超高アスペクト比プロセス向けPrimo XD-RIEがラボテストを完了し、Beta機も顧客先での検証が順調に進んでいる。7ナノメートル以下のロジックデバイス向け新型高選択比エッチング装置は年内に顧客へ出荷される予定である。ICPエッチング装置では、低温高アスペクト比エッチング装置がすでに顧客の生産ラインで安定量産に入っており、次世代高精度装置についても複数のリピート受注を獲得している。